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EVG540-晶圓鍵合自動(dòng)化系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述:EVG540-晶圓鍵合自動(dòng)化系統(tǒng) 應(yīng)用:全自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng)(晶圓鍵合機(jī)),適用于大300 mm的基板

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):代理商
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  • 更新時(shí)間:2025-10-22
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詳細(xì)介紹

EVG540-晶圓鍵合自動(dòng)化系統(tǒng)

應(yīng)用:全自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng),適用于大300 mm的基板

一、簡(jiǎn)介
EVG540自動(dòng)化晶圓鍵合系統(tǒng)是一種自動(dòng)化的單腔室生產(chǎn)鍵合機(jī),設(shè)計(jì)用于中試線生產(chǎn)以及用于晶圓級(jí)封裝,3D互連和MEMS應(yīng)用的大批量生產(chǎn)的研發(fā)。EVG540基于模塊化設(shè)計(jì),為我們未來(lái)的晶圓鍵合工藝從研發(fā)到大規(guī)模生產(chǎn)的全集成生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)過渡提供了可靠的解決方案。

二、EVG540-晶圓鍵合自動(dòng)化系統(tǒng)特征
單室鍵合機(jī),大基板尺寸為300 mm
與兼容的SmartView 和MBA300
自動(dòng)處理多達(dá)四個(gè)鍵合卡盤
符合高安全標(biāo)準(zhǔn)

三、技術(shù)數(shù)據(jù)
大加熱器尺寸300毫米
裝載室使用2軸機(jī)器人
高 鍵合室2個(gè)

四、工作原理:

晶圓鍵合自動(dòng)化系統(tǒng)的工作原理可以概括為三大核心環(huán)節(jié):全自動(dòng)傳輸與對(duì)準(zhǔn)、鍵合工藝執(zhí)行、以及全程環(huán)境控制。整個(gè)過程猶如一場(chǎng)在超凈間內(nèi)進(jìn)行的、由機(jī)器人主導(dǎo)的精密舞蹈。

1. 全自動(dòng)傳輸與對(duì)準(zhǔn)

取片與清潔: 系統(tǒng)通過精密的機(jī)械手,從指定的載具(如FOUP)中取出第一片晶圓,并將其運(yùn)送到預(yù)處理工位。在這里,可能會(huì)進(jìn)行等離子體活化或其他清潔處理,以增強(qiáng)晶圓表面的鍵合能力。

超高精度對(duì)準(zhǔn): 這是系統(tǒng)的核心步驟之一。兩片晶圓被分別放置在對(duì)準(zhǔn)臺(tái)上,系統(tǒng)通過高分辨率的光學(xué)鏡頭,識(shí)別晶圓上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。然后,精密電機(jī)驅(qū)動(dòng)其中一個(gè)對(duì)準(zhǔn)臺(tái),在微米甚至納米級(jí)尺度上進(jìn)行XYθ方向的移動(dòng)和旋轉(zhuǎn),確保兩層晶圓上的電路圖案精確無(wú)誤地對(duì)準(zhǔn)。此步驟的精度直接決定了最終產(chǎn)品的性能和良率。

2. 鍵合工藝執(zhí)行

對(duì)準(zhǔn)完成后,系統(tǒng)將兩片晶圓移送至鍵合腔室。根據(jù)不同的技術(shù)路線,系統(tǒng)會(huì)施加特定的能量和壓力,促使晶圓界面原子或分子間形成強(qiáng)大的結(jié)合力。主要的鍵合方式包括:

直接鍵合/融合鍵合: 在超高潔凈和平整度的條件下,將兩片經(jīng)過活化的晶圓直接貼合并施加壓力,依靠分子間的范德華力或氫鍵,再經(jīng)過高溫退火形成堅(jiān)固的共價(jià)鍵。系統(tǒng)需要提供更高的平整壓力和可控的高溫環(huán)境。

陽(yáng)極鍵合: 主要用于玻璃與硅晶圓的鍵合。系統(tǒng)在鍵合腔室內(nèi)對(duì)晶圓施加高溫、高壓和直流電壓,使玻璃中的鈉離子遷移,在界面處形成強(qiáng)大的靜電力從而結(jié)合。

共晶鍵合: 在晶圓表面沉積一層共晶材料(如金-硅),系統(tǒng)在鍵合腔室內(nèi)施加精確的熱量和壓力,使共晶材料熔化并與對(duì)方晶圓表面反應(yīng),冷卻后形成牢固的金屬鍵合。

臨時(shí)鍵合與解鍵合: 在先進(jìn)封裝中,系統(tǒng)會(huì)先用一種臨時(shí)膠將晶圓與載板鍵合,以便進(jìn)行薄晶圓加工;加工完成后,再通過激光、加熱或滑移等方式將二者分離(解鍵合)。

3. 全程環(huán)境控制

整個(gè)鍵合過程必須在超潔凈、恒溫恒濕、無(wú)振動(dòng)的環(huán)境下進(jìn)行。系統(tǒng)本身就像一個(gè)密閉的堡壘,內(nèi)部擁有高效顆粒物過濾和氣幕系統(tǒng),防止任何微小塵埃落在晶圓上造成缺陷。

對(duì)于某些鍵合工藝,鍵合腔室內(nèi)還需要?jiǎng)?chuàng)造高真空或特定保護(hù)氣體(如氮?dú)猓?的環(huán)境,以防止氧化并保證鍵合質(zhì)量。


五、 主要用途:

晶圓鍵合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)芯片性能持續(xù)提升(超越摩爾定律)和功能多樣化的關(guān)鍵使能技術(shù)之一。其用途廣泛,主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:

1. 制造三維集成芯片

這是其最核心的用途。通過將多層芯片(如處理器、內(nèi)存、傳感器等)垂直堆疊并鍵合在一起,可以大幅縮短芯片內(nèi)部互聯(lián)的長(zhǎng)度,從而顯著提升數(shù)據(jù)傳輸速度、降低功耗、減小封裝尺寸。這正是實(shí)現(xiàn)高性能計(jì)算(HPC)、人工智能(AI)芯片等器件的關(guān)鍵技術(shù)。

2. 制造MEMS和傳感器

絕大多數(shù)MEMS器件(如陀螺儀、加速度計(jì)、麥克風(fēng)、壓力傳感器)都需要一個(gè)密封的真空或惰性氣體腔體來(lái)工作。晶圓鍵合系統(tǒng)可以為MEMS結(jié)構(gòu)提供一個(gè)理想的“封裝蓋板”,保護(hù)其精密的可動(dòng)結(jié)構(gòu)免受外界環(huán)境(如濕度、塵埃)的影響。

3. 制造先進(jìn)的功率器件和射頻器件

對(duì)于氮化鎵(GaN)、碳化硅(SiC)等寬禁帶半導(dǎo)體材料,通過晶圓鍵合技術(shù)可以將它們轉(zhuǎn)移到更理想、成本更低的襯底(如硅)上,實(shí)現(xiàn)高性能與低成本的結(jié)合,廣泛應(yīng)用于5G基站、電動(dòng)汽車和新能源領(lǐng)域。

4. 制造半導(dǎo)體-on-絕緣體

通過智能剝離與鍵合技術(shù),可以制備SOI晶圓,這種晶圓能有效減少寄生電容和漏電,是制造低功耗、高性能芯片的理想基底。


晶圓鍵合自動(dòng)化系統(tǒng)就像是為晶圓(芯片的母體)準(zhǔn)備的全自動(dòng)、超高精度的“嫁接”或“貼合”系統(tǒng),能將兩片或多片晶圓結(jié)合在一起,形成一個(gè)功能更強(qiáng)大的三維結(jié)構(gòu)。


 

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